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真空熱處理系列
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真空燒結系列
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真空高溫高壓系列
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HIP熱等靜壓系列
· HIP熱等靜壓設備
不銹鋼管專用熱處理系列
· VQG系列大型立式真空高壓固溶時效成套設備
· VCHF系列真空連續(xù)熱處理設備
· EP管專用熱處理套設備
· VQG系列底裝式高壓固溶設備
鈦合金高溫合金專用配套熱處理系列
· VAF系列鈦合金真空退火爐
· VDF系列真空除氣爐（石墨膜殼）
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真空氫化系列
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碳材料特種生產線設備
· VPI系列真空壓力浸漬爐
· VMF系列真空電阻炭化爐（馬弗爐）
· VCDF系列真空化學氣相沉積爐
· VHSF系列真空高溫石墨化爐
連續(xù)生產線
· VMF系列真空鎢網爐/連續(xù)生產線
半導體晶體生長系列
· 氮化鎵晶體生長室（高溫高壓鈉流法）
主要用于晶體生長、化合反應等工藝。
主要用于電力能源燃料芯塊及燃料小球、燃料大球的燒結處理。
主要用于鉿、鋯、鈦及其合金或稀土等吸氫材料的氫化及脫氫一體化處理。
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